Исследование кинетики окисления тонких пленок Ti кондуктометрическим методом
В.А. Матвеев
(ОИТОЭР, ПИЯФ НИЦ КИ)
Время: 31 марта 14:00
Место: Корпус № 1
Авторами разработан и апробирован метод изучения кинетики окисления тонких пленок Ti путем измерения их удельного электросопротивления. Такой метод позволяет отслеживать изменение толщины слоя металла с хорошей точностью непосредственно в процессе отжига. Для апробирования метода были выбраны аморфные пленки Ti толщиной 40 нм, полученные методом магнетронного напыления. В ходе исследований было установлено, что рост оксидного слоя на поверхности Ti пленок хорошо описывается обратным логарифмическим законом, а повышение температуры отжига приводит к ускорению процесса окисления. Характер кинетических кривых указывает на применимость модели Кабрера-Мотта.