Изучены процессы роста и кристаллическая структура слоев NiF2 на гетероэпитаксиальных подложках CaF2/Si(111). Показано, что методом молекулярно-лучевой эпитаксии при температуре 350−450◦C удается реализовать устойчивый эпитаксиальный рост метастабильной орторомбической фазы NiF2 (структурный тип CaCl2), при этом толщина слоя фторида никеля в метастабильной фазе может достигать 1 μm. Методами рентгеновской дифрактометрии определены параметры элементарной ячейки в слоях орторомбического фторида никеля: a = 4.5680(1)A, b = 4.7566(3) A, c = 3.0505(2)A, которые очень близки к известным для этой фазы значениям. Установлено, что в широком диапазоне параметров роста выполняется усло- вие (100)NiF2 k (111)CaF2 , что согласуется с результатами качественного кристаллографического анализа элементов подобия рассматриваемых структур. При этом в плоскости гетерограницы наблюдается обра- зование доменной текстуры, характер которой зависит от температуры роста и толщины слоев фторида никеля.